パーク・システムズ・ジャパン

パーク・システムズ・ジャパンの概要と特徴

パークシステムズは韓国の水原市に本社を置く会社です。ナノスケールの顕微鏡や計測ソリューションを幅広く提供しており、さまざまな分野の研究者やエンジニアが活用しています。また、長年の経験を持つ原子間力顕微鏡 (AFM)により、高精度な表面計測を可能にしています。

検査可能な対象と検出可能な欠陥

• 検査可能な対象
  半導体ウェーハ、フォトマスク、フラットパネルディスプレイ、ポリマー材料、金属・セラミック材料など
• 検出可能な欠陥
  フィッシュアイ、異物、傷、汚れ、汚点、黒点、ムラ、シワ、ストリーク、気泡、欠け、打痕、ピンホール、凸凹など（対象物により異なる）

パーク・システムズ・ジャパンが提供する検査装置の利点

物質の表面を原子レベルで観察できる高解像度の顕微鏡であるAFMにより、非常に細かい構造や欠陥を把握することができるほか、高さや深さを精密に測定して3次元の形状を再現。さまざまな大きさの試料に対応しています。また、AI搭載のSmart Scanオペレーティングシステムにより、取り扱い方法も簡単になっています。

パーク・システムズ・ジャパンの製品一覧

Park NX20

引用元：パーク・システムズ・ジャパン公式サイト
https://www.parksystems.com/jp/products/research-afm/large-sample-afm/nx20

高速欠陥イメージングや3D測定用の分離型XYスキャンシステムにより、高精度で再現性の高い測定を実施するPark NX20は、故障解析や半導体の計測に適したソリューションです。
使い勝手の良い設計と、自動化されたインターフェースが特徴。複雑な半導体の調査や、大型試料の研究に適しています。

Park NX-Wafer

引用元：パーク・システムズ・ジャパン公式サイト
https://www.parksystems.com/jp/products/in-line-metrology-afm/wafer-fabrications/nx-wafer

非常に高い水準のナノスケール表面分解能や、非常に微細なサブオングストローム単位の高さ精度を備えた、先進の自動AFM測定システムです。
ライブモニタリングや自動解析など高度な自動化機能も装備。ウェーハファブリケーションの包括的な検査も可能です。

Park NX-Hybrid WLI

引用元：パーク・システムズ・ジャパン公式サイト
https://www.parksystems.com/jp/products/in-line-metrology-afm/optical-profilometry/nx-hybrid-wli

AFMと白色光干渉技術を融合させた、先進のハイブリッド半導体計測装置がPark NX-Hybrid WLIです。
前工程や先端パッケージング、研究開発計測などさまざまな半導体製造ニーズに対応。超高精度でナノメートルスケール単位のズームインが必要なユーザー向けです。

そのほかの製品

• Park FX200…200ミリの大型試料に対応したAFMで、先進技術による高精度を実現
• Park NX-HDM…欠陥の識別、スキャン、分析によるプロセスを大幅に自動化したAFM
• Park NX-Mask…自動欠陥レビューや修理プロセス検証などをオールインワンで提供

光学フィルム・樹脂・保護フィルムなど
表面欠陥検査装置カスタマイズ事例を見る

まとめ

パーク・システムズ・ジャパンは、ナノスケール計測分野で強みを持ち、特に原子間力顕微鏡（AFM）を活用した高精度な表面欠陥検査を提供しています。半導体ウェーハやフォトマスク、ディスプレイ材料など幅広い対象に対応可能です。

代表的なPark NXシリーズは、ナノメートル単位での高さ計測や3D形状再現が可能で、AI搭載のSmart Scanによる操作性向上も実現。AFMと光学技術を融合させたハイブリッド型装置も揃え、研究から製造ラインまで包括的に対応します。

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