株式会社アドバンテスト

半導体デバイスの微細化が急速に進む現代の製造現場において、フォトマスクやウェーハ上の微小な欠陥を見逃さない高度な検査・レビュー体制の構築は、歩留まり向上に直結する重要課題です。

本記事では、半導体テスト装置のグローバルリーダーであり、高度な走査型電子顕微鏡（SEM）技術を用いた欠陥レビュー装置を展開する株式会社アドバンテストの強みや製品について解説します。

株式会社アドバンテストの概要と特徴

株式会社アドバンテストは、半導体試験装置（テスタ）分野の企業です。長年にわたり培ってきた高精度な計測技術と電子ビーム技術を融合させ、微細化が極限まで進む半導体製造プロセスを強力にサポートしています。

表面欠陥の領域においては、走査型電子顕微鏡（SEM）の技術を応用したシステムを提供しています。フォトマスクやウェーハ上の極めて微小な表面構造を高精度かつ安定的に測定・画像化することで、製造工程における迅速な原因究明と歩留まり改善に大きく貢献しています。

検査可能な対象と検出可能な欠陥

走査型電子顕微鏡（SEM）の優れた分解能を活かし、光学式検査では判別が困難なナノレベルの微小欠陥のレビューとクラシフィケーション（分類）を実現します。次世代のEUV露光マスクなど半導体製造プロセスで要求される厳しい品質基準にも対応可能な高い性能を備えています。

• 対応検査対象：フォトマスク、ウェーハ（配線パターン）、次世代EUV露光マスク など
• 検出可能な欠陥：微小欠陥（パターン欠陥、異物、ショート、断線など）

株式会社アドバンテストの製品一覧

測長SEM／欠陥レビューSEM：MASK-DR SEM E5600 series (E5620)

フォトマスク上の微小欠陥のレビューとクラシフィケーション（分類）を目的としたMASK DR-SEM（欠陥レビュー用走査型電子顕微鏡）です。
安定性の高いイメージキャプチャ技術を実装しており、マスク検査システムからインポートした欠陥位置データを自動的に高解像度で画像化します。次世代のEUV露光マスク向けに数多くの改善が施されており、微細化の限界に挑む製造ラインにおいて、確実な欠陥把握と歩留まり向上をもたらします。

まとめ

株式会社アドバンテストは、世界を牽引する半導体テスト・計測技術を基盤にSEM技術を用いた欠陥レビュー装置を提供しています。特にEUV露光マスクのようなナノレベルの微細構造に対する高精度な画像化と自動化プロセスは、半導体製造における品質の維持・向上に不可欠です。

極小欠陥の確実なレビューと分類、そして製造ラインの高度化を目指す企業にとって、同社のソリューションは非常に強力な選択肢となるでしょう。

株式会社アドバンテストの会社情報